钨靶材 钨平面靶 磁控溅射靶材 高纯度科研试验用
更新时间:2018-05-05 16:48:13
价格:¥450/千克
密度:≥19.3g/cm3
熔点:3410℃
供货状态:平面钨靶材 旋转钨靶材 圆形钨靶材
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详细介绍
钨靶材、钨圆、Tungsten target参数
牌号:W1
标准:ASTM B760-07,GB/T3875-06
纯度:纯钨W1≥99.95%,钨合金W1≥90%(添加稀土元素)
密度:≥19.3g/cm3
熔点:3410℃
规格:根据客户要求定制
供货状态:平面钨靶材 旋转钨靶材 圆形钨靶材
工艺:钨坯(原材料)-检验-热轧-校平及退火-碱洗-磨光--检验--包装
工期:定制10天内交货(现货随时发货)。
付款方式:30%定金,70%发货前付清。
包装方式:用垫有塑料隔板的木箱包装,内附有材质证明书及装箱单等附件,单箱重量不超过100kg。
发货方式:快递或物流(可协商)
运费:供应商承担。
后期服务:保质期内如出现质量问题,供方承担所有责任(正常使用范围内)。
钨圆的使用条件:真空环境或是惰性气体保护环境,Zui高使用温度可以达到2600度。
钨圆的用途:钨圆主要用在耐高温行业,电子行业,蓝宝石行业,航空航天行业等。
钨材料成份单
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